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https://hdl.handle.net/20.500.14094/90005892
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90005892 (fulltext)
pdf
524 KB
6
メタデータ
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メタデータID
90005892
アクセス権
open access
出版タイプ
Version of Record
タイトル
Depositing Mechanism of Metal Oxide Thin Film in the Liquid Phase Deposition Process
著者
Mizuhata, Minoru ; Saito, Yasuhito ; Takagi, Mariko ; Deki, Shigehito
著者ID
A0922
研究者ID
1000010283871
KUID
https://kuid-rm-web.ofc.kobe-u.ac.jp/search/detail?systemId=bc56357c0d6f0f29520e17560c007669
著者名
Mizuhata, Minoru
水畑, 穣
ミズハタ, ミノル
所属機関名
工学研究科
著者名
Saito, Yasuhito
著者名
Takagi, Mariko
著者名
Deki, Shigehito
収録物名
ECS Transactions
巻(号)
16(46)
ページ
93-101
出版者
Electrochemical Society
刊行日
2009
公開日
2019-04-23
抄録
The equilibrium reaction of fluorosilicate ion (SiF62-) in the LPD method was investigated by the measurement of UV and IR spectroscopies, Raman spectroscopy. These measurements were carried out by adding the F- scavenger such as H3BO3 and Al metal which shifts the equilibrium reaction. Also, the concentration of Si dissolving species was measured after addition of fine alpha-Al2O3 powder. These species were estimated to be involved in the LPD process as intermediates and important for controlling the deposition process of metal oxide.
カテゴリ
工学研究科
学術雑誌論文
権利
© 2009 ECS - The Electrochemical Society
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資源タイプ
journal article
言語
English (英語)
ISSN
1938-5862
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eISSN
1938-6737
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DOI
https://doi.org/10.1149/1.3169324
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